集成电路制造技术集成电路制造技术——原理与工艺光刻技术JI CHENG DIAN LU ZHI ZAO JI SHU 光刻工艺光刻技术刻蚀技术光刻工艺第八章 光刻工艺JI CHENG DIAN LU ZHI ZAO JI SHU 8.1 概述光刻(photolithography) 是将掩模版（光刻版）上的几何图形转移到覆盖在硅衬底表面对光辐照敏感的光刻胶上的工艺。光刻技术发展Si光刻胶光刻掩模光源投影透镜Lmin 光刻通常是用最小线条宽度来表征其发展水平，称为特征线宽（ critical dimension, CD ）8.1 概述光刻分辨率• 分辨率（ resolution ），指一个光学系统精确区分目标的能力。也就是能分辨开物面上两点的最小距离。由瑞利定律决定：k NAR1• 光刻分辨率，指由光刻工艺得到的光刻胶图形能分辨线条的最小线宽。主要由光刻系统分辨率...
