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集成电路制造技术与实践:光刻工艺PPT教学课件.pptx

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第 9 章 光刻工艺第 9 章 光刻工艺9.1 光刻工艺的三要素9.2 光刻工艺的重要性9.3 光刻工艺流程9.4 光刻分辨率9.5 光刻机9.6 曝光光源9.7 光刻胶9.8 光刻版9.9 先进的光刻技术本章小结第 9 章 光刻工艺9.1 光刻工艺的三要素 光刻工艺是通过投影和曝光,将光刻版图形转移到光刻胶上的工艺过程。由光刻工艺确定的光刻胶图形仅仅是集成电路图形的印模,还需要通过刻蚀工艺,将光刻胶图形转移到晶圆表面组成集成电路的各个材料层。 要完成光刻工艺,获得高分辨率的图形,必须借助光刻机、光刻版和光刻胶这三个要素。第 9 章 光刻工艺 1. 光刻机 光刻机用于提供光刻工艺所必需的曝光光源,实现图形对准和曝光,是集成电路制造中最重要和最昂贵的设备。 光刻机的重要性体现在三个方面:一是...

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